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磁控濺射設備的主要用途

2021-08-03 14:15:22

磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。上世紀 70 年代發展起來的磁控濺射法更是實現了高速、低溫、低損傷。因為是在低氣壓下進行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場,利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。


磁控濺射設備的主要用途


(1)各種功能性薄膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如,低溫堆積氮化硅減反射膜,以進步太陽能電池的光電轉化效率。


(2)裝飾領域的應用,如各種全反射膜及半通明膜等,如手機外殼,鼠標等。


(3) 在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技能,主要應用在化學氣相堆積(CVD)或金屬有機


(4)化學氣相堆積(CVD)成長困難及不適用的資料薄膜堆積,并且可以獲得大面積非常均勻的薄膜。

磁控濺射設備

(5) 在光學領域:中頻閉合場非平衡磁控濺射技能也已在光學薄膜(如增透膜)、低輻射玻璃和通明導電玻璃等方面得到應用。特別是通明導電玻璃現在廣泛應用于平板顯現器材、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器材、傳感器等。


(6)在機械加工行業中,外表功能膜、超硬膜,自潤滑薄膜的外表堆積技能自問世以來得到長足發展,能有用的進步外表硬度、復合韌性、耐磨損性和抗高溫化學穩定功能,從而大幅度地進步涂層產品的使用壽命。


磁控濺射除上述已被很多應用的領域,還在高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光資料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發揮重要作用。



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