CVD設備
您當前的位置 : 首 頁 > 新聞中心 > 行業資訊

磁控濺射設備滿足顧客的個性化需求

2021-11-26 10:14:18

磁控濺射設備協作NCVM工藝,能夠完成關于陶瓷電子消費品的外表裝修處理,在確保陶瓷強度和硬度的一起,也能夠提高其漂亮性和藝術性,更好地滿足顧客的個性化需求。NCVM鍍膜主要是在真空條件下,通過相應的物理化學手法來對金屬材料進行轉換,以粒子的辦法吸附在材料外表,構成鍍膜層,相比較普通真空電鍍,NCVM的技能含量更高,加工流程也愈加復雜。

磁控濺射鍍超硬膜,結合NCVM光學鍍膜技能,其鍍層具有優異的耐磨性、耐蝕性、鍍層厚度均勻性以及致密度高的特色,已在電子產品中獲得很多運用。跟著電子工業的迅猛發展,NCVM鍍膜憑仗自身優越的功用,在真空電鍍技能領域鋒芒畢露,成為了電子消費品生產中的一項核心技能,在確保良好處理作用的一起,也能夠消除電鍍過程中重金屬元素關于人體的損害,對其環境污染問題進行處理。

磁控濺射設備


磁控濺射系統的作業原理是指電子在電場E的作用下,在飛向基片進程中與氬原子發生磕碰,使其電離發生出Ar正離子和新的電子;新電子飛向基片,Ar離子在電場作用下加快飛向陰ji靶,并以高能量轟擊靶外表,使靶材發生濺射。在濺射粒子中,中性的靶原子或分子堆積在基片上構成薄膜,而發生的二次電子會遭到電場和磁場作用,發生E(電場)×B(磁場)所指的方向漂移,簡稱E×B漂移,其運動軌道近似于一條擺線。若為環形磁場,則電子就以近似擺線方式在靶外表做圓周運動,它們的運動途徑不只很長,并且被束縛在挨近靶外表的等離子體區域內,并且在該區域中電離出很多的Ar 來轟擊靶材,然后完成了高的堆積速率。跟著磕碰次數的添加,二次電子的能量消耗殆盡,逐漸遠離靶外表,并在電場E的作用下究竟堆積在基片上。由于該電子的能量很低,傳遞給基片的能量很小,致使基片溫升較低。

(以上內容全部來源于網絡,如有問題請聯系我刪除)

標簽

Z近瀏覽:

午夜天堂-欧洲美熟女乱又伦av影片-波多野结衣中文不卡免费观看-97精品国产高清久久久久