CVD設備
您當前的位置 : 首 頁 > 新聞中心 > 行業資訊

磁控濺射設備成膜均勻細密,與基體的結合力強

2021-12-13 22:31:48

磁控濺射設備跟著當下我國對環保作業的日益看重,傳統高耗費、重污染的電鍍職業逐漸被推上風口浪尖。因為電鍍職業的基礎性,注定著它無法直接被撤消,所以怎樣對電鍍技能進行升級換代,成為許多研究人員需求思考的問題。以前的鍍膜多采用電鍍法和化學鍍法,存在著厚度難以控制、膜層均勻性差、附著力差等問題,三廢污染特別嚴重,在人們環保認識逐漸加強的今天,其打開已受到了多方面的限制。

磁控濺射系統對現代化的重要性而磁控鍍膜系統對環境友好,無污染,耗材少,成膜均勻細密,與基體的結合力強。和傳統的鍍膜方法比較,磁控濺射鍍膜設備具有許多的利益,如裝修效果好,金屬質感強,易于操作等。特別在非金屬物件的應用上,有著傳統電鍍無法比擬的優勢。磁控濺射系統的作業原理是電子在電場E的效果下飛向襯底的過程中與氬原子發生碰撞,并使它們電離發生Ar正離子和新電子。  Ar離子在電場的效果下加快到陰極靶,并以高能轟擊靶外表,然后使靶資料濺射。

磁控濺射設備


磁控濺射包括許多類型。 每個都有不同的作業原理和應用方針。 可是,它們有一個共同點:磁場和電場之間的相互效果導致電子在方針外表鄰近回旋扭轉,然后增加了電子撞擊氬氣發生離子的可能性。 發生的離子在電場的效果下撞擊靶外表并濺射靶資料。磁控反響濺射絕緣子好像很容易,但實際操作卻很困難。 主要問題是該反響不僅發生在零件的外表上,并且發生在陽極,真空腔的外表和方針源的外表上,這會導致滅火,方針源和外表起弧 工件。 德國萊比錫創造的雙靶技能很好地處理了這個問題。 原理是一對方針源是彼此的陰極和陽極,因而陽極外表被氧化或氮化。

(以上內容全部來源于網絡,如有問題請聯系我刪除)

標簽

Z近瀏覽:

午夜天堂-欧洲美熟女乱又伦av影片-波多野结衣中文不卡免费观看-97精品国产高清久久久久