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磁控濺射設備是在兩濺射的基礎上開發的

2022-01-11 17:17:29

磁控濺射設備對環境友好,耗材少,成膜均勻細密,與基體的結合力強。和傳統的鍍膜辦法比較,磁控濺射鍍膜設備具有許多的長處,如裝修效果好,金屬質感強,易于操作等。特別在非金屬物件的應用上,有著傳統電鍍無法比擬的優勢。磁控濺射體系的作業原理是電子在電場E的效果下飛向襯底的過程中與氬原子發生磕碰,并使它們電離發生Ar正離子和新電子。  Ar離子在電場的效果下加速到陰靶,并以高能炮擊靶外表,然后使靶資料濺射。

磁控濺射包含許多類型。 每個都有不同的作業原理和應用對象。 但是,它們有一個共同點:磁場和電場之間的相互效果導致電子在方針外表鄰近回旋扭轉,然后增加了電子碰擊氬氣發生離子的可能性。 發生的離子在電場的效果下碰擊靶外表并濺射靶資料。

磁控濺射設備


磁控濺射設備是在兩濺射的基礎上開發的。 在靶資料的表面上建立與電場正交的磁場。 它處理了低兩層濺射堆積速率和低等離子體電離速率的一階問題,這已成為目前的涂層。重要的行業辦法之一。 與其他涂層技能相比,磁控濺射具有以下特點:能夠將多種資料制成靶材,簡直能夠將一切金屬,合金和陶瓷資料制成靶材; 能夠在恰當條件下堆疊多種靶材共濺射辦法而穩定的合金。

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