新聞中心-沈陽鴻晟恒業科技有限公司_第2頁

全站搜索磁控濺射鍍膜儀磁控濺射設備 CVD設備

您當前的位置：首頁 > 新聞中心

真空退火爐設備徹底消除了加熱過程中工件表面的氧化,脫碳

2021-12-08 11:06:42

真空退火爐設備徹底消除了加熱過程中工件表面的氧化、脫碳，可獲得無變質層的清潔表面。這對于那些在刃磨時僅磨一面的刀具（如麻花鉆磨削后使溝槽表面的脫碳層直接暴露于刃...

了解詳情 +
真空退火爐設備不得有雜物,塵埃,油污,水等

2021-12-05 12:11:40

真空退火爐設備因停電而超溫損壞密封圈。真空爐的循環水系統制止斷水!冷卻水的壓力須依照額外壓力設備冷卻水進口處壓力：0.15～0.3MPa、流量約30m3/h。進...

了解詳情 +
磁控濺射設備原理是入射粒子和靶的磕碰進程

2021-12-04 17:45:27

磁控濺射設備在光學范疇：IF關閉場非平衡磁控濺射技術也已應用于光學薄膜（例如抗反射涂層），低輻射率玻璃和通明導電玻璃中。特別地，通明導電玻璃現在廣泛地用于平板...

了解詳情 +
真空退火爐設備升溫后,不能長期敞開爐門

2021-12-03 11:46:32

真空退火爐設備升溫后，不能長期敞開爐門。當溫度高于400℃時，不得急劇冷卻。對于電熱元件在溫度高、冷熱改變大情況下，容易引起氧化掉皮。對于鉬加熱爐，EI常運用維...

了解詳情 +
真空退火爐設備是規范節能型周期式作業爐

2021-12-02 16:32:45

真空退火爐設備由爐門、爐門提高組織和爐門壓緊設備組成。爐門殼體由型鋼與板材焊接而成牢固框架結構，內用　耐火纖維壓制模塊疊鋪而成，要求保溫性能好，重量輕等。爐門的...

了解詳情 +
磁控濺射設備對生成的膜均勻性,成膜質量,鍍膜速率等方面有很大的影響

2021-11-29 17:46:27

磁控濺射設備原子的能量比蒸發原子的能量大許多倍;入射離子的能量很低時，濺射原子角散布就不完全符合余弦散布規律。角散布還與入射離子方向有關。從單晶靶濺射出來的原子...

了解詳情 +
磁控濺射設備自傳性強,產量大,成品率高

2021-11-28 11:57:25

磁控濺射設備包含很多品種。各有不同作業原理和運用對象。但有一共同點：運用磁場與電場交互效果，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，然后增大電子碰擊氬氣產生離子的概率。...

了解詳情 +
磁控濺射設備不只應用于科研及工業范疇,已延伸到許多日常生活用品

2021-11-27 11:51:49

磁控濺射設備化學氣相堆積（CVD）生長困難及不適用的資料薄膜堆積，并且可以獲得大面積十分均勻的薄膜。在光學范疇：中頻閉合場非平衡磁控濺射技能也已在光學薄膜（如...

了解詳情 +
磁控濺射設備滿足顧客的個性化需求

2021-11-26 10:14:18

磁控濺射設備協作NCVM工藝，能夠完成關于陶瓷電子消費品的外表裝修處理，在確保陶瓷強度和硬度的一起，也能夠提高其漂亮性和藝術性，更好地滿足顧客的個性化需求。NC...

了解詳情 +
建立磁控濺射設備鍍膜綜合設計系統是勢在必行的

2021-11-25 15:23:36

建立磁控濺射設備鍍膜綜合設計系統是勢在必行的。系統的建立可按照由整體綜合設計展開到部分設計，然后，再由部分設計逐步深入到整體綜合設計，即“整體到部分，再到整體”...

了解詳情 +
磁控濺射設備可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作

2021-11-24 20:00:32

磁控濺射設備濺射絕緣子似乎很容易，但實際操作卻很困難。主要問題是該反應不僅發生在零件的表面上，而且發生在陽極，真空腔的表面和目標源的表面上，這會導致滅火，目標...

了解詳情 +
磁控濺射設備小型設備和一般工業設備,多用磁場靜止靶源

2021-11-23 15:17:06

磁控濺射設備靶源分平衡式和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝修膜。磁控陰極依照磁場...

了解詳情 +
磁控濺射設備鍍膜體系開展至今,在工業方面顯的極為重要

2021-11-22 09:46:41

磁控濺射設備是目前汽車玻璃膜制造中的技術，與前期或現在一些劣質車膜生產商仍在選用的染色與鍍鋁復合方法來生產窗膜的工藝有著本質的不同。在上世紀八十年代初，在全球首...

了解詳情 +
磁控濺射設備在裝修領域的應用

2021-11-21 16:13:51

當磁控濺射設備入射離子的能量低于某一臨界值(閥值)時，不會產生濺射;濺射原子的能量比蒸騰原子的能量大許多倍;入射離子的能量很低時，濺射原子角分布就不完全符合余弦...

了解詳情 +
磁控濺射設備能有效的提高表面硬度、復合耐性

2021-11-20 14:30:09

磁控濺射設備各種功用性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等效果的薄膜。例如，低溫堆積氮化硅減反射膜，以提高太陽能電池的光電轉化功率。裝飾領域的使用，如各種...

了解詳情 +
磁控濺射設備大規模使用問題

2021-11-19 10:16:01

磁控濺射設備的作業原理是指電子在電場E的效果下，在飛向基片進程中與氬原子發生磕碰，使其電離發生出Ar正離子和新的電子；新電子飛向基片，Ar離子在電場效果下加速飛...

了解詳情 +
磁控濺射設備大幅度地進步涂層產品的使用壽命

2021-11-18 17:37:00

磁控濺射設備各種功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等效果的薄膜。例如，低溫堆積氮化硅減反射膜，以進步太陽能電池的光電轉化效率。裝修范疇的使用，如各種...

了解詳情 +
磁控濺射設備具有“高速”“低溫”的長處

2021-11-17 17:22:28

磁控濺射設備就是在真空中使用荷能粒子炮擊靶外表，使被炮擊出的粒子沉積在基片上的技能。通常，使用低壓惰性氣體輝光放電來發生入射離子。陰極靶由鍍膜資料制成，基片作為...

了解詳情 +
真空退火爐設備溫度規模廣,加熱元件多種可選

2021-11-16 16:36:05

在真空退火爐設備檢漏時，除暫時應急維修用真空泥糊堵外，有氦質譜檢漏儀可用氦質譜檢漏儀進行真空檢漏，如沒氦質譜檢漏儀可用醫用針管吸丙酮或乙醚射到所懷疑的漏點處，調...

了解詳情 +
磁控濺射設備首要使用在化學氣候堆積上

2021-11-15 09:46:22

磁控濺射設備是在兩極濺射的基礎上開發的。在靶資料的外表上樹立與電場正交的磁場。它解決了低兩層濺射堆積速率和低等離子體電離速率的一階問題，這已成為現在的涂層。...

了解詳情 +

首頁上一頁

123 4 5 6 7 8 9 10

2/11

下一頁尾頁


掃一掃

企業分站 | 網站地圖 | RSS | XML

?2020 遼ICP備20006404號-1版權所有：沈陽鴻晟恒業科技有限公司技術支持：凱鴻科技

主營區域：沈陽遼寧大連鞍山營口丹東遼陽朝陽

午夜天堂-欧洲美熟女乱又伦av影片-波多野结衣中文不卡免费观看-97精品国产高清久久久久